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製品の詳細
製品の紹介
・8インチと6インチのシリコンウエハ表面を捕集するための揮発性成分（有機汚染物）。(SW-8400)
・12インチシリコンウエハ表面を捕集するための揮発性成分（有機汚染物）。(SW-12400)
・片面シリコンウェハの揮発性ガスを捕集し、操作が簡便である。
・加熱炉は、ウェハ表面から発生するガスのみを捕集サンプリングするフリップ方式を採用している。
・12インチシリコンウエハ表面を捕集するための揮発性成分（有機汚染物）。(SW-12400)
・片面シリコンウェハの揮発性ガスを捕集し、操作が簡便である。
・加熱炉は、ウェハ表面から発生するガスのみを捕集サンプリングするフリップ方式を採用している。
・加熱炉は最高500℃まで加熱できる。
・加熱炉の封口はOリング（ポリイミド材質）で密封し、漏れがない。
・一般的にPAT（内容積10 ml、Tenax GR 2.5 g充填）を用いてガスを捕集する。他のメーカーの対応するトラップサンプリングチューブを選択してサンプリングすることもできます。
・加熱炉の封口はOリング（ポリイミド材質）で密封し、漏れがない。
・一般的にPAT（内容積10 ml、Tenax GR 2.5 g充填）を用いてガスを捕集する。他のメーカーの対応するトラップサンプリングチューブを選択してサンプリングすることもできます。
・冷却水循環装置を備えている。
・過熱防止装置、インターロック安全装置、急停止ボタン、漏水センサー（オプション）などの安全防止装置を装備する。
・過熱防止装置、インターロック安全装置、急停止ボタン、漏水センサー（オプション）などの安全防止装置を装備する。
技術パラメータ
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モード
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ぎゃくてんじょうほうしき
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トラップシリコンウエハサイズ
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8”または6”、5”以下に拡張リングを追加する必要がある（12400型、12”）
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Oリング
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シール部直径220 mm（ポリイミド）
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石英加熱炉
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透明石英マテリアル
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加熱炉加熱方式
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天板・底板独立加熱方式
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加熱炉使用温度
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常用400℃（最高500℃まで）
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加熱炉冷却
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冷却水循環装置
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ほおんかん
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ないぶひょうめんふかっせいめっき
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パージガス
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通常は窒素ガスを用い、最大使用流量は500 ml/min
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かねつぼうしそうち
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電流15 A、誘導電流30 mA
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きゅうていしボタン
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赤色、キノコ型
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あんぜんそうち
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インタロック構造
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加圧方式
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モータ駆動
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デバイスサイズ
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1140(W)×1106(H)×750(D)mm
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じゅうりょう
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280Kg
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電源装置
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単相AC 200 V、15 A・AC 100 V、20 A
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標準添付ファイル：
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PAT（一次吸着管）：
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2本（他社の捕集管とはセットではない）
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PATラック
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1個（他社捕集管とはセットでない）
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PATアダプタ
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1個（他社捕集管とセットで使用）
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Oリング
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2個
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冷却水循環装置
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1台（標準配管付）
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ほおんかん
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1本
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ガス配管
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1セット（1/16"-1/8"）
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ケーブル本
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1セット
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ツール
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1セット
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取扱説明書
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1冊
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*SW-1200型の技術仕様についてはお問い合わせください。
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